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  • Minilock-Phantom III ICP等離子刻蝕ICP
    Minilock-Phantom III ICP等離子刻蝕ICP

    等離子刻蝕ICP基片通過(guò)預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶(hù)安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防止反應(yīng)室內(nèi)可能發(fā)生的腐蝕。

    更新時(shí)間：2024-06-17型號(hào)：Minilock-Phantom III ICP瀏覽量：2311
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